索大好的秘密武器?堆栈式CMOS是什么鬼
名词:层积式CMOS
别名:堆叠式CMOS、堆栈式CMOS
英文:Stacked CMOS
虽然英文Stack确实有“堆栈”的意思,但Stacked CMOS的结构与编程中的“堆栈”数据结构没有半毛钱关系。不过,“堆栈式CMOS”这个名词已经被各大手机厂商炒火了,我们现在再强调翻译的正确性也没有太大作用。
索尼是最早推出层积式CMOS的厂商,产品子品牌为Exmor RS(这里的“S”代表“Stacked”)。它不仅占据了绝大部分市场份额,同时也致力于推进层积式CMOS技术的进步。所以,层积式CMOS的发展其实就是Exmor RS CMOS的发展。
第1代Exmor RS
代表产品:IMX135、IMX145(iPhone5s)
主要改进:缩小模块尺寸
2012年8月,索尼推出第1代层积式CMOS:IMX135、IMX134和ISX014。
在背照式CMOS中,像素和相关电路位于同一平面,再下面则是支持基板;而在层积式CMOS中,像素层独立出来(仍然是背部入射结构),相关电路挪至下方替代原有的支持基板。这带来了2个好处:
像素层和电路层可以分开制造并贴合,电路层能使用更先进的工艺;
表面积利用率更高(元件从平面摆放变成立体堆叠),整个模块的尺寸更小。
背照式CMOS(左)与层积式CMOS(右)结构对比
2013年9月发布的iPhone5S同样搭载了索尼层积式CMOS(IMX145)。与iPhone4S等早期产品相比,IMX145的单像素尺寸增加了0.1μm,模块表面积利用率提高了50%,模块尺寸缩小了20%。
1/2.3英寸800万像素CMOS规格对比
第2代Exmor RS
代表产品:IMX214
主要改进:4K摄像、SME-HDR
2013年4月,索尼推出第2代层积式CMOS:IMX214。与前代产品IMX135相比,IMX214的主要改进有2点,包括:
- 引入SME-HDR技术:以往的软件合成HDR不适合拍摄运动对象。而SME-HDR是基于硬件的HDR合成方法,不仅合成效果更好,同时减轻了处理器的压力。作为结果,IMX214实现了1300万像素、每秒30帧的HDR影像输出。
- 工艺改进:减少微透镜到感光二极管的距离,提高光线利用率,更适合搭配薄的大光圈镜头(在索尼SLT-A99等产品采用的35mm全画幅约2430万像素CMOS上,这被称作“光聚合”技术)。同时,新工艺还减少了像素间的信号串扰,提高弱光下的色彩饱和度。
第3代Exmor RS
代表产品:RX100IV、RX10II
主要改进:内置DRAM,速度更快
如同Intel在芯片制造中的Tick-Tock战略一样,第1代层积式CMOS是结构改进,第2代是工艺改进,第3代再次迎来结构改进——2015年6月,索尼在RX100IV、RX10II上应用了,新一代Exmor RS的主要变化包括:
- 感光面积扩大到1英寸(对角线15.864mm);
- 3层结构:从上至下依次为像素层、模数转换器(ADC)等相关电路层和内置DRAM层;
- 拆分后,高速处理电路的规模更大,速度更快。
1是像素部分,2是相关电路,3是内置DRAM
传统CMOS(包括第2代层积式CMOS)的图像采集流程是:n列像素信号先进入n个ADC,然后再进入影像处理器(ISP),最后进入缓存;等到全部像素数据进入缓存后,再输出成影像——这种工作流程是果冻效应的根源。
第3代Exmor RS因为内置DRAM,图像采集流程变为:n列像素信号先进入n个ADC,然后进入DRAM;等到全部像素数据进入缓存后,再进入ISP进行处理。ADC工作频率的提高和传输整张影像所需时间的减少了,有效降低了果冻效应等图像变形。
传统CMOS(上)与第3代Exmor RS(下)的图像采集流程对比
值得一提的是,RX100III、RX10一次只能读取4列像素。由于高速处理电路的规模更大,因此RX100IV、RX10II一次可以读取8列像素。配合DRAM,最终实现了每秒16张高速连拍、每秒1000帧高速视频拍摄等新特性。
TIPS:什么是果冻效应
当相机、被摄对象之间存在高速相对位移时(如拍摄高尔夫球挥杆动作、在行驶的车辆上拍摄路边的灯杆等),画面中的直线发生弯曲、图像边缘模糊、部分画面曝光错误,有任一情况都可以称之为果冻效应。
果冻效应的根源是感光元件无法做到全部像素同时采集。
无变形效果(上)与因为采样速度导致的变形效果(下)
小结
最初的CMOS只是一个光信号采集器,输出模拟信号。2007年2月,索尼公布了“采用列并行AD转换的超高速高画质CMOS”技术,实现了CMOS整合ADC。片上ADC和列并行数字CDS也随之成为索尼Exmor CMOS的立命根本。
背照式结构、层积式结构都是为了提高芯片的空间利用率,从平面排布升级到立体堆叠。在这一过程中,不同功能的元件实现了层级独立,制造商可以根据需要应用不同的制造工艺——将尖端制造技术应用在刀刃上,同时控制整体制造成本。
第3代Exmor RS其实已经整合了部分ISP功能,也就是RX100IV、RX10II其实有2级ISP。功能整合应该是相机发展的大趋势,在未来,相信会有更多功能被集成到CMOS上。
最后的最后,背照式、层积式结构是实现曲面感光元件的先决条件。
用最简单的方式,让你理解什么是堆栈式CMOS
在上一篇文章中,我们介绍了什么是背照式CMOS。在索尼的体系中,它以Exmor R作为产品线的名称。同时,我们也看到了一类叫作Exmor RS的CMOS,这就是堆栈式CMOS。
如何用最简单的方式理解堆栈式CMOS?
这得从CMOS的制造工艺说起。在传统CMOS制造时,需要使用光刻机在硅片上进行蚀刻,划分出像素区域和处理电路区域。这个处理电路不是像素上方或下方的电路,而是另一块整体的控制电路。
[1]为像素区域
[2]为处理电路
在蚀刻时,会有一个问题,以索尼用于手机等的小CMOS为例,它对于像素区域的制造工艺,可以使用65nm的制程(可简单理解为制造精度),但对于处理电路的区域,65nm的制程是不够的,如果能用45nm的制程制造,那么在处理电路上的晶体管数量就能翻倍,这样,图像从像素处理出来的速度就更快,画质就能更好。但因为在同一片硅片上进行蚀刻,没法使用两个制程来制造。
所以很容易想到,如果将这两个区域分开,像素区域放在一个硅片上,用65nm制程制造,处理电路放在另一个硅片上,用45nm制程制造,再将它们堆叠拼起来,那这个矛盾就解决了。
这就是堆栈式CMOS。
[1]为像素区域
[2]为处理电路
[3]为高速缓存
堆栈式,背照式,前照式,这三个类型是单独的,不存在从属关系。我们可以使用背照式的技术,再用堆栈式的结构,发挥最大优点。所以索尼的Exmor RS,其实就是背照式和堆栈式的结合。
有了堆栈式的结构,我们能在处理电路得到更多的晶体管,拥有更快的速度,因此,原来不容易实现的HDR、升格等,现在变得很常见。读出速度也变得更快,因此果冻效应更小。而且,由于将像素区域和处理电路区域堆叠,像素区域能做得更大。
而且,使用堆栈式能带来一些特殊的技术。如我们常见的拜耳排列大多是RGGB的,画面的亮度是通过亮度方程(Y=0.299R+0.587G+0.114B),由RGB色光的值算出来的。但使用堆栈式技术,人们研究出了一种新的拜耳排列RGBW,其中,RGB对应常见的红绿蓝,W对应白,对亮度感光。这样,传感器的低光感光能力就大大提升。
另一个就是刚才提到的HDR,在堆栈式下,能够支持硬件HDR,即在感光元件层面就实现了高动态范围,而不需进入到摄影机的处理器中计算,这样,就能更快更直接的得到HDR视频。
但现在由于工艺和成本的问题,小CMOS制造堆栈式已经比较普遍,而类似半幅、全幅的堆栈式CMOS,仍然比较昂贵,索尼的A9就采用了全幅的堆栈式CMOS,因此23000多元贵得也不是没有道理。
当然将来越来越多的CMOS会采用堆栈式结构,随着工艺的成熟,我们也能得到更多高画质低价格的产品。
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